真空懸浮熔煉爐用途：

真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來飛速發(fā)展的一種熔煉方法，是在真空條件下或保護氣氛條件下對金屬材料進行熔煉處理。利用電磁力使爐料半懸浮，熔池與坩堝壁保持非接觸，使爐料不受坩堝材料的污染。有效的用于活潑金屬、高熔點金屬及其合金的熔煉主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬，

真空懸浮熔煉爐小型懸浮爐實驗用懸浮爐設(shè)備特點

1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無接觸冶煉，干凈無污染。

2·冶煉溫度高，專門應(yīng)用于高熔點難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。

3·采用磁懸浮IGBT電源，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。

4·可鍋底成型或者澆鑄鑄造成型。

5·熔煉溫度高，可用于2000度及以上高溫金屬及合金的熔煉制備

采用臥式爐體，側(cè)部開門結(jié)構(gòu)，進出料方便，爐體結(jié)構(gòu)緊湊，占地空間較小。坩堝反映較強烈的材料（如鈦及其合金）更顯示出其優(yōu)勢。在工業(yè)上廣泛應(yīng)用于鈦、鋯及其合金的熔鑄。真空懸浮爐是為材料科學科研而設(shè)計的，是一種專用的現(xiàn)代化高純度熔煉設(shè)備。

二、主要技術(shù)參數(shù)

1、額定功率：30-200Kw

2、容量（以鐵計）：10g-5kg

3、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz

4、分瓣冷坩堝：8-32瓣

5、冷態(tài)極限真空度：5Pa~6.7*10-4帕以下